化(hua)學機械拋(pao)光，英文(wen)簡稱(cheng)為(wei)：CMP。CMP是化(hua)學和機械的綜合作用，在(zai)(zai)一定壓力及(ji)拋(pao)光漿(jiang)料存(cun)在(zai)(zai)下，在(zai)(zai)拋(pao)光液中的腐蝕介質作用下工件(jian)表(biao)面(mian)形成一層(ceng)軟化(hua)層(ceng)，拋(pao)光液中的磨粒(li)對(dui)于(yu)工件(jian)上(shang)的軟化(hua)層(ceng)進行磨削，因而在(zai)(zai)研(yan)磨的工件(jian)表(biao)面(mian)形成光潔(jie)表(biao)面(mian)
拋(pao)(pao)光(guang)(guang)皮(pi)在化學機(ji)械拋(pao)(pao)光(guang)(guang)的作用，第(di)(di)一能把拋(pao)(pao)光(guang)(guang)液有效均(jun)勻地輸送到(dao)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)皮(pi)的不用區(qu)域；第(di)(di)二從被加(jia)(jia)工(gong)表面帶(dai)走拋(pao)(pao)光(guang)(guang)過(guo)程(cheng)中(zhong)的殘留物質(zhi)、碎(sui)屑等，達到(dao)去(qu)除(chu)效果(guo)。第(di)(di)三(san)傳遞和承(cheng)載加(jia)(jia)工(gong)去(qu)除(chu)過(guo)程(cheng)中(zhong)所需的機(ji)械載荷；第(di)(di)四維持(chi)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)皮(pi)表面的拋(pao)(pao)光(guang)(guang)液薄膜(mo)，以便化學反應充(chong)分(fen)進(jin)行(xing)；第(di)(di)五保持(chi)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)過(guo)程(cheng)的平穩、表面不變形，以便獲得(de)較好的產品表面形貌(mao)。
很多(duo)用家都喜歡把拋(pao)光(guang)(guang)皮開槽。開槽能夠提供拋(pao)光(guang)(guang)皮自身(shen)的(de)(de)追從性，拋(pao)光(guang)(guang)皮溝槽形狀對拋(pao)光(guang)(guang)液的(de)(de)運送(song)及均勻分布(bu)、化學(xue)反(fan)應速度、反(fan)應產(chan)物(wu)及其(qi)濃度，材料去除(chu)速率會產(chan)生重要(yao)影(ying)響，是改變拋(pao)光(guang)(guang)墊性能的(de)(de)最主要(yao)途徑。拋(pao)光(guang)(guang)皮常規開槽種類有正螺旋對數型、負(fu)螺旋對數型，圓環型和網絡型。
拋(pao)(pao)(pao)光皮按(an)照(zhao)材質可分為不織布(bu)(bu)(bu)(bu)磨(mo)皮、聚氨酯(zhi)硬(ying)質磨(mo)皮、阻尼(ni)(ni)布(bu)(bu)(bu)(bu)磨(mo)皮。此(ci)處重點介紹阻尼(ni)(ni)布(bu)(bu)(bu)(bu)磨(mo)皮，阻尼(ni)(ni)布(bu)(bu)(bu)(bu)磨(mo)皮也稱阻尼(ni)(ni)布(bu)(bu)(bu)(bu)、拋(pao)(pao)(pao)光墊。阻尼(ni)(ni)布(bu)(bu)(bu)(bu)磨(mo)皮是聚氨酯(zhi)樹脂和(he)發泡(pao)添加劑顏料(liao)（炭黑(hei)）等混合后放入水中凝固，干燥成(cheng)薄膜狀。然后通過(guo)(guo)拋(pao)(pao)(pao)光加工(gong)，粘上基材和(he)雙(shuang)面(mian)膠得到最終產品。阻尼(ni)(ni)布(bu)(bu)(bu)(bu)應用于(yu)高平滑性，低欠陷性的(de)(de)精磨(mo)工(gong)序。沒有經過(guo)(guo)拋(pao)(pao)(pao)光的(de)(de)阻尼(ni)(ni)布(bu)(bu)(bu)(bu)主(zhu)要作為吸附墊應用于(yu)玻(bo)璃等的(de)(de)研磨(mo)。所以阻尼(ni)(ni)布(bu)(bu)(bu)(bu)在半導體(ti)晶(jing)片，硬(ying)盤，LCD玻(bo)璃主(zhu)板，藍寶石玻(bo)璃的(de)(de)精磨(mo)得到廣(guang)泛的(de)(de)應用。
阻尼布(bu)是一種絲(si)絨狀拋光布(bu)，表面多孔，呈彈性。研(yan)磨(mo)時(shi)可有效(xiao)含浸(jin)研(yan)磨(mo)液(ye)，提(ti)高切(qie)削力(li)同時(shi)避免劃傷工件(jian)。是一種性能(neng)優(you)良的鏡面效(xiao)果加(jia)工耗材。常用于光學元件(jian)、晶(jing)體及(ji)金屬和(he)玻璃(li)材料(liao)的終道(dao)拋光；也(ye)可用來(lai)拋光特殊材料(liao)，諸如硅、鍺、硒脂鋅、砷(shen)化鎵、合金鋼、陶瓷、塑料(liao)（丙烯酸玻璃(li)）等(deng)。
